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Gratuito con prova Illustrazione lineare del drogaggio del substrato nella produzione di semiconduttori. Un reticolo cristallino di silicio puro si biforca in tipo N e tipo P: un atomo donatore di fosforo con cinque elettroni di valenza aggiunge un elettrone libero, mentre un atomo accettore di boro con tre elettroni di valenza lascia una lacuna. I blocchi di wafer sottostanti mostrano una distribuzione uniforme del dopante nel bulk. line art of substrate doping in semiconductor manufacturing a pure silicon crystal lattice branches into n type and p phosphorus. Illustrazione lineare del drogaggio del substrato nella produzione di semiconduttori. Un reticolo cristallino di silicio puro si biforca in tipo N e tipo P: un atomo donatore di fosforo con cinque elettroni di valenza aggiunge un elettrone libero, mentre un atomo accettore di boro con tre elettroni di valenza lascia una lacuna. I blocchi di wafer sottostanti mostrano una distribuzione uniforme del dopante nel bulk.
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