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Silicio, Si, cella unitaria con struttura cristallina cubica del diamante, utilizzato come semiconduttore. La base dell'elettronica moderna per fabbricare microchip e componenti che alimentano la tecnologia odierna. Vettore.
Silicio, Si, cella unitaria con struttura cristallina cubica del diamante, utilizzato come semiconduttore. La base dell'elettronica moderna per fabbricare microchip e componenti che alimentano la tecnologia odierna. Vettore.
Giunzione p-n. Lo strato di silicio di tipo p contiene più cariche positive, chiamate lacune, e lo strato di silicio di tipo n contiene più cariche negative, o elettroni. Quando i materiali di tipo p e di tipo n vengono messi a contatto l'uno con l'altro.
Giunzione p-n. Lo strato di silicio di tipo p contiene più cariche positive, chiamate lacune, e lo strato di silicio di tipo n contiene più cariche negative, o elettroni. Quando i materiali di tipo p e di tipo n vengono messi a contatto l'uno con l'altro.
Sfondo vettoriale geometrico astratto con fotomaschera di circuito di wafer di silicio in stile neobrutalismo acido e audace. Design ad alto contrasto ideale per copertine tecnologiche, interfacce HUD e modelli grafici industriali.
Sfondo vettoriale geometrico astratto con fotomaschera di circuito di wafer di silicio in stile neobrutalismo acido e audace. Design ad alto contrasto ideale per copertine tecnologiche, interfacce HUD e modelli grafici industriali.
Logo moderno e concettuale, ideale per grandi aziende di tecnologia informatica. Il design è perfetto e futuristico, la forma illustra un core principale e linee con piccoli core secondari, il tutto per formare un core più grande per prestazioni in dimensioni nano.
Logo moderno e concettuale, ideale per grandi aziende di tecnologia informatica. Il design è perfetto e futuristico, la forma illustra un core principale e linee con piccoli core secondari, il tutto per formare un core più grande per prestazioni in dimensioni nano.
Il filtro Bayer RGB è comunemente utilizzato in fotocamere digitali, videocamere e scanner. Il pattern del filtro Bayer è composto dal 50% di verde, 25% di rosso e 25% di blu. Il motivo per cui c'è più verde è che sia il silicio che l'occhio umano sono più sensibili alle lunghezze d'onda verdi.
Il filtro Bayer RGB è comunemente utilizzato in fotocamere digitali, videocamere e scanner. Il pattern del filtro Bayer è composto dal 50% di verde, 25% di rosso e 25% di blu. Il motivo per cui c'è più verde è che sia il silicio che l'occhio umano sono più sensibili alle lunghezze d'onda verdi.
Icona lineare di uno strato epitassiale: un wafer di silicio con tacca con sottili strati cristallini cresciuti in superficie, un reticolo atomico legato attraverso la superficie e atomi di silicio che arrivano dall'alto. Mostra come l'epitassia estenda il monocristallo del wafer per formare uno strato di dispositivo pulito. Illustrazione schematica, non in scala.
Icona lineare di uno strato epitassiale: un wafer di silicio con tacca con sottili strati cristallini cresciuti in superficie, un reticolo atomico legato attraverso la superficie e atomi di silicio che arrivano dall'alto. Mostra come l'epitassia estenda il monocristallo del wafer per formare uno strato di dispositivo pulito. Illustrazione schematica, non in scala.
Illustrazione lineare del drogaggio del substrato nella produzione di semiconduttori. Un reticolo cristallino di silicio puro si biforca in tipo N e tipo P: un atomo donatore di fosforo con cinque elettroni di valenza aggiunge un elettrone libero, mentre un atomo accettore di boro con tre elettroni di valenza lascia una lacuna. I blocchi di wafer sottostanti mostrano una distribuzione uniforme del dopante nel bulk.
Illustrazione lineare del drogaggio del substrato nella produzione di semiconduttori. Un reticolo cristallino di silicio puro si biforca in tipo N e tipo P: un atomo donatore di fosforo con cinque elettroni di valenza aggiunge un elettrone libero, mentre un atomo accettore di boro con tre elettroni di valenza lascia una lacuna. I blocchi di wafer sottostanti mostrano una distribuzione uniforme del dopante nel bulk.
Modello per la quarta di copertina completa di una monografia sulla fotonica del silicio con bus a guida d'onda accoppiato a un anello ottico circolare a galleria di sussurri.
Modello per la quarta di copertina completa di una monografia sulla fotonica del silicio con bus a guida d'onda accoppiato a un anello ottico circolare a galleria di sussurri.
Ossidazione Termica: icona artistica di linea del processo di forno che converte la superficie di una wafer di silicio in biossido di silicio. Bobine di riscaldamento circondano la camera a circa 800-1200 gradi Celsius, e molecole di ossigeno, o vapore nell'ossidazione umida, arrivano alle facce anteriore e posteriore.
Ossidazione Termica: icona artistica di linea del processo di forno che converte la superficie di una wafer di silicio in biossido di silicio. Bobine di riscaldamento circondano la camera a circa 800-1200 gradi Celsius, e molecole di ossigeno, o vapore nell'ossidazione umida, arrivano alle facce anteriore e posteriore.
Disegno lineare in bianco e nero di un wafer di silicio con una tacca di orientamento a forma di V, anello di esclusione del bordo tratteggiato e una griglia simmetrica di die di chip. Mostra il substrato circolare monocristallino su cui è costruito ogni microchip. Icona pulita per la produzione di semiconduttori, fabbricazione di chip, elettronica, ingegneria e istruzione tecnologica.
Disegno lineare in bianco e nero di un wafer di silicio con una tacca di orientamento a forma di V, anello di esclusione del bordo tratteggiato e una griglia simmetrica di die di chip. Mostra il substrato circolare monocristallino su cui è costruito ogni microchip. Icona pulita per la produzione di semiconduttori, fabbricazione di chip, elettronica, ingegneria e istruzione tecnologica.
Strato di fotoresist: icona in stile line art che mostra come viene applicato un rivestimento fotosensibile nella fotolitografia. Un ugello di erogazione nella parte superiore rilascia una goccia di resist liquido verso il centro di un wafer di silicio con tacca. Frecce curve su ciascun lato mostrano il substrato che ruota ad alta velocità, il che distribuisce il polimero verso l'esterno in un film sottile e uniforme e th.
Strato di fotoresist: icona in stile line art che mostra come viene applicato un rivestimento fotosensibile nella fotolitografia. Un ugello di erogazione nella parte superiore rilascia una goccia di resist liquido verso il centro di un wafer di silicio con tacca. Frecce curve su ciascun lato mostrano il substrato che ruota ad alta velocità, il che distribuisce il polimero verso l'esterno in un film sottile e uniforme e th.
Tacca piatta del wafer: arte lineare in bianco e nero di un wafer di silicio con una piccola tacca di orientamento a forma di V incisa sul bordo. Un ingrandimento mostra questo dettaglio in silicio tratteggiato, con un simbolo di angolo di 90 gradi e un indicatore della dimensione di profondità. Una linea tratteggiata va dal centro al bordo per mostrare la direzione del cristallo, e una freccia curva mostra il disco.
Tacca piatta del wafer: arte lineare in bianco e nero di un wafer di silicio con una piccola tacca di orientamento a forma di V incisa sul bordo. Un ingrandimento mostra questo dettaglio in silicio tratteggiato, con un simbolo di angolo di 90 gradi e un indicatore della dimensione di profondità. Una linea tratteggiata va dal centro al bordo per mostrare la direzione del cristallo, e una freccia curva mostra il disco.